Intel відмовляє в звітах про ЗМІ, стверджуючи, що вона скасувала свій 10-нм процес

Ні для кого не секрет, що процес 10nm у Intel був забитий затримками та проблемами - вузол вже запізнився до кінця року, і він може не дебютувати за обсягом до 4 кварталу 2019 року. Але новинні ЗМІ свідчать про те, що Intel повністю скасувала вузол, тоді як сам Intel заперечує це заряд.

Заява з боку SemiAccurate, яка пише, що "Тепер ми чуємо від довірених родичів, що процес дійсно мертвий, і це добре для Intel, якщо б вони продовжували працювати на своєму шляху, катастрофа була б неприйнятною. Наші молі кажуть, що дія нарешті була зроблена. "SemiAccurate дійсно передбачав, що Intel скасує або суттєво перегляне свій 10-нм вузол з менш агресивними цілями для його просування.

Intel оскаржує цю претензію:

ЗМІ, опубліковані сьогодні, що Intel закінчує роботу з 10-нм процес, є неправдивими. Ми робимо хороший прогрес на 10нм. Прибутковість покращується відповідно до тимчасової шкали, яку ми ділимо під час останнього звіту про прибутки.

- Новини Intel (@intelnews) 22 жовтня 2018 року

На жаль, неможливо побачити фактичні докази того, що SemiAccurate забезпечує (архівне посилання, сайт знижується) за свій аргумент, оскільки ця інформація є лише для підписки. Тому важко перевірити оцінені претензії. Але найкраще запитати, зважаючи на нестачу інформації, це таке: Незалежно від того, чи відмінила компанія Intel свій попередній 10-нм процес, чи буде Intel відмовитися від найвищої якості ливарного виробництва? І відповідь там очевидна "ні"

Існує безліч причин, чому Intel не прийме цього результату, починаючи з того факту, що це дорівнює тому, що майбутнє просування в сторонніх компаніях переходить у майбутнє. І в цьому контексті "скасування" 10-нм може означати щось більш схоже на "складання нового плану для подальшого прогресування вузла", на відміну від "прогулянки з переднього краю назавжди", навіть якщо припустити, що чутки SemiAccurate є правильними. Там занадто багато на кону, наскільки Intel сприймає виробничу майстерність. Провідна розробка краю просто занадто важлива для того, щоб компанія вийшла з ладу.

Якщо чутки SA є правильними, ми швидше за все почуємо про це раніше. Компанія Intel, яка раніше неодноразово використовувала рампу на 10-нм, у 4-му кварталі 2019 року повинна публічно повідомити своїх партнерів та інвесторів про будь-які затримки, як це повідомляло їх про попередні. Більш імовірним кроком дій буде Intel для того, щоб продовжувати просуватися з вузлом "10-нм" з різними характеристиками - можливо, ще більш розслабленим, ніж компанія, яка реалізувала неймовірно амбітний проект гіперкаліації, який, здавалося, був складним підходом, коли його було запропоновано ще в 2017 р. Не вдалося запустити з тих пір. Оригінальні 10-нм слайд-шоу від Intel та наші коментарі з дня його запуску обидві вставляються нижче:

Корпорація Intel заявляє про значні поліпшення на плавному кроці, мінімальному кроці металу, висоті комірки та висоті воріт, а дві нові технології відбиваються на хорошу міру.

Цей слайд показує економію місця за допомогою використання одиничних щільних фіктивних затворів, а не двох воріт, розділених більшим простором. Intel стверджує, що це поліпшення може забезпечити до 20% ефективної масштабу масштабу вигоди.

Переміщення контакту безпосередньо під транзистор зберігає Intel ще 10% в ефективному масштабі області.

Ось, як Intel потрапляє до "гіперкаліфікації" в 2.7x, це стосується деінде. Справа не тільки в зімкненнях, але і в вторинних технологіях, запечених у них.

Оскільки більшість людей не знають різниці між різними вузлами або типами вузлів, Intel може скопіювати оновлений процесовий вузол на місце та називати його 10нм. Найменування вузлів в основному є маркетинговими заголовками в наші дні, тому заміщення залишатиметься непоміченим серед широкої публіки, і якщо ефективність нового вузла буде достатньою, то серед технічної преси це може йти далі, крім звітів про відмінності як про те, фактичної точності.

Цей слайд узагальнює, чому Intel хоче інший показник для процесів вузлів. Ще в порівнянні з "іншими" 14-нм, його щільність транзисторів все ще 1.23x вище. Примітка. Ми не знаємо, які конкретні вузли процесу в Samsung або TSMC порівнювали з продуктами Intel.

Основний аргумент Intel щодо продовження закону Мура полягає в тому, що його 10-нм буде більшим поліпшенням його щільності транзисторів 14-нм, ніж у будь-якого попереднього покоління.

Цей же графік, що й попередній слайд, але з сировими числами на густину транзистора замість точок масштабування.

Що стосується транзисторного шару воріт, то 20 нм та перша покоління 14nm / 16nm були приблизно порівнянними з 22nm вузлом Intel. Пізніше продукт 14 / 16нм поліпшився на цій метриці, але все ще відстає трирічний вузол Intel.

Літійні вироби з чистого лиття порівняно покращуються в порівнянні з Intel у масштабі металевого кроку, але вони все ще не відповідають 14-нм Intel, багато що дозволяє його 10-нм ціль. Знову ж таки, вони прогнозують розгортання 10-нм на щось ближче до Intel 14-нм.

Очікується, що видобуток чистограну лити перевищить щільність 14-нм транзисторів Intel, коли вони будують 10-нм продукції в обсязі, але Intel вважає, що щільність 10-нм буде значно кращою.

На цьому слайді є два цікаві речі. По-перше, це підтверджує, що Intel * буде * розгортати вузол 14nm ++, як це було раніше, і що перше покоління 10-нм не забезпечить однакову продуктивність. Клієнтам сьогоднішнього озера Кабі буде довелося чекати 10-нм + +, очікуваного до 2020 р., Щоб побачити підвищення рівня продуктивності на рівні транзистора вище та вище, ніж пропонують озеро Кабі.

Наша остання думка така. Незважаючи на те, чи є цей слух справжнім, ці проблеми, як правило, відповідають теорії, про яку ми говорили протягом багатьох років: хоча це правда, що 10-нм шашки Intel вже були безпрецедентними. Зокрема, вузли вислизають, а цикли проблемного вдосконалення стають більш нормальними ніж вони колись були, тому що труднощі подальшого вдосконалення лише зросли. Intel не компанія, яку ми сподіваємось в першу чергу впоратись із цими проблемами, але це не означає, що вони не є реальними.

Це не означає, що Intel не зробив помилок у цьому процесі. Але це робить ці помилки істинно більш ймовірними.

Читати далі

Раджа Кодурі від Intel представить на майбутній конференції Samsung Foundry

Цього тижня Раджа Кодурі від Intel виступить на ливарному заході Samsung - і це не те, що сталося б, якби Intel не мала чого сказати.

Нові відомості про Intel Rocket Lake: Сумісність із зворотною стороною, Xe Graphics, Cypress Cove

Intel опублікувала трохи більше інформації про Rocket Lake та його 10-нм процесор, який було перенесено назад на 14 нм.

Intel випускає нові мобільні графічні процесори Xe Max для творців вмісту початкового рівня

Intel випустила новий споживчий мобільний графічний процесор, але він має дуже конкретний варіант використання, принаймні зараз.

Огляд Ryzen 9 5950X та 5900X: AMD розв’язує Zen 3 проти останніх бастіонів продуктивності Intel

AMD продовжує натиск на те, що колись було безперечним торфом Intel.